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      AIXTRON推出新款MOCVD设备AIX G5 HT

      德国LED设备大厂AIXTRON AG指出,新一代MOCVD Platform AIX G5 HT系统已达成生产力目标。

      据悉,新系统在600 mbar以上的高压下能以极高的速率完成高质量的氮化镓沉淀,产量超过前一代系统的1倍,氮化镓/氮化铟镓也有优异的均一性。在无反应炉烘培或替换任何零件的情况下,上述晶膜的生成在台湾晶电厂区连续进行。目前,此MOCVD反应炉正要转换至量产阶段。